Zur Herstellung miniaturisierter Gassensoren und Sensorsysteme sowie nanoskaliger Metall- und Halbleiterstrukturen kann Fraunhofer IPM auf einen 400 Quadratmeter großen Reinraum bis Klasse 100 zurückgreifen. Hier werden maßgeschneiderte photolithographische Prozesse und Beschichtungsverfahren entwickelt und ausgeführt. Dabei können funktionale Oberflächen in Dünnschicht- und Dickschicht von wenigen nm bis einigen µm auf beliebige Substrate mittels Sputter- und Aufdampfanlagen sowie Tintenstrahldruckern abgeschieden werden.

Das Materialspektrum reicht von gassensitiven Metalloxiden wie  SnO₂, Cr_2-xTi_xO_3+z, WO₃, MoO₃ oder Co₃O₄, über Metalle wie Pt oder Pd, leitfähige, transparente Schichten (TCOs) wie ITO und Antireflexionsschichten wie MgF₂ oder ZnSe bis zu kolorimetrischen Materialien. Zusätzlich werden Raman-, UV/VIS- und FTIR-Spektrometer sowie Rasterelektronen- und Atomkraftmikroskope zur Materialcharakterisierung verwendet.